Epoch Platform Size Comparison

Endura Epoch 平台 – 值得信赖的 OCXO

定位导航和授时(PNT)系统依赖于精确授时。大多数 PNT 系统的主要授时源是 GPS 或其他 GNSS。 GPS 可能会因干扰、欺骗、恶劣天气、树冠或建筑物内部而有意或无意地受到干扰。当 GPS 信号中断时,除非有超稳定的本地时钟,否则关键设备将无法运行。如果没有值得信赖的时钟,中断可能会给军事或航空航天行动带来灾难性后果。

加固型 MEMS OCXO(烤箱控制振荡器)的 Endura Epoch Platform™ 解决了传统石英 OCXO 长期存在的问题,这些问题本质上不太可靠,在冲击和振动下容易出现性能下降,而且体积庞大且耗电。与标准 +1ppb OCXO 相比,Endura OCXO 在频率稳定性、尺寸和功耗方面提供基准性能。

设备*数据表稳定保持

(3 微秒)

频率温度。范围尺寸(毫米)特征
西特7111 ±1ppb 24小时10 至 60 兆赫取决于
-40 至 +95°C
9.0×7.0×3.6 420毫瓦功耗,
±10 ppt/°C 频率斜率
SiT7112 ±1ppb 24小时60 至 220 兆赫取决于
-40 至 +95°C
9.0×7.0×3.6 460毫瓦功耗,
±10 ppt/°C 频率斜率
SiT7101 ±3, 5 ppb 12小时10 至 60 兆赫取决于
-40 至 +95°C
9.0×7.0×3.6 420毫瓦功耗,
±20 ppt/°C 频率斜率
SiT7102 ±3, 5 ppb 12小时60 至 220 兆赫取决于
-40 至 +95°C
9.0×7.0×3.6 460毫瓦功耗,
±20 ppt/°C 频率斜率

* 所有器件均提供:(1) 通过 I2C/SPI 的数字频率牵引 (DCOCXO),牵引范围高达 ±800 ppm,分辨率为 0.05 ppt (5e-14); (2) 电源电压可选2.5V、2.8V、3.3V; (3) 稳压 LVCMOS 或限幅正弦波输出。

索取样品

硅可靠性

Endura Epoch OCXO 在行业标准微电子工厂中制造,这些工厂使用高纯度材料和在统计过程控制下管理的环境。 Endura OCXO 经过统计鉴定,验证了大批量生产的设计和工艺。这使得可靠性比石英 OXCO 高 30 倍。

适用于恶劣环境的坚固耐用的 OCXO

Endura Epoch OCXO 经过设计和测试,可在高冲击和振动环境中运行。它们在 10G 振动下表现出 0.01 ppb/g g 灵敏度,无需外部振动补偿,比市售的振动额定 OCXO 好 20 倍。这样就无需使用笨重的振动补偿 OCXO 或设计定制的减振系统。

Endura Epoch OCXO 在以下方面优于商用振动额定 OCXO。

  • 0.01 ppb/g g 灵敏度 – 提高 70 倍
  • 整个温度范围内的稳定性为 ±1 ppb – 提高 20 倍
  • ±0.01 ppb/°C ΔF/ΔT,温度斜率稳定性 – 提高 10 倍
  • 5E-12 艾伦偏差 (ADEV) – 提高 4 倍
  • 0.1 ppb/天短期老化 – 改善 10 倍

低SWaP解决方案

Endura Epoch OCXO 在尺寸、重量和功率 (SwaP) 方面显着改进,同时提供基准性能。它们具有无与伦比的易用性,消除了由于热量、EMI、占地面积或高度而对电路板放置的限制,并且减少了对减振的需求。

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Performance Multiplier of Endura Epoch vs. Low-g quartz OCXO

Endura Epoch OCXO 解决了传统振动额定 OCXO 的尺寸和功率问题。它们被设计为表面贴装器件,可以与电路板上的其他元件同时进行回流焊。

  • 9.0 x 7.0 x 3.6 毫米 – 缩小多达 20 倍
  • 0.35 克 – 重量比振动补偿设计轻 300 倍
  • 典型功耗为 420 mW (3.3V) – 功耗降低多达 2 倍

提供超稳定、超弹性的本地时钟

SiTime 的 Endura Epoch 平台是精确计时领域的游戏规则改变者。在 GPS 中断或“保持”期间,PNT 系统性能由本地时钟的时间误差驱动。 Endura OCXO 在保持期间提供基准稳定性,24 小时内时间误差仅为 3 µs,无需老化补偿。

Endura Epoch OCXO 保持性能的实现得益于出色的 Allan 偏差和 0.1 ppb/天的低日老化。

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Endura Epoch OCXO Is the Stable PNT OCXO during GPS disruption

Endura Epoch OCXO 在恒温下无老化补偿的时间误差可达 24 小时。

Endura Epoch OCXO 优于石英 OCXO

气流下的阿达玛偏差 (HDEV)

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SiT7111 is 3x-10x More Resistant to Airflow, Enabling Better Holdover

Endura Epoch OCXO 与非振动额定 ±1ppb 商用 OCXO 之间超过 10,000 秒的测量哈达玛偏差(无日常老化的艾伦偏差)的比较。除了 HDEV 降低 3 倍之外,Endura Epoch OCXO 还表现出硅制造带来的部件间可重复性。


整个温度范围内的频率稳定性

Endura Epoch OCXO 在 -40 至 95°C 范围内的额定频率稳定性与温度关系为 ±1 ppb,dF/dT 为 ±0.1 ppb/°C,即使在温度波动(昼夜、外部或内部)期间也能提供卓越的保持能力。系统。

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SiTime’s Tight Silicon Production Process Enables Dependable FvT

-40 至 85°C 范围内 ±1 ppb Endura Epoch OCXO 的频率稳定性与一流的非振动额定 ±1 ppb 商用 OCXO 的比较。

频率随温度变化的斜率 (dF/dT)

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SiT7111 is 2x-10x Better on ΔF/ΔT, Enabling Longer Holdover

±1 ppb Endura Epoch OCXO 与一流的非振动额定 ±1ppb 商用 OCXO 的频率稳定性与温度的比较。

与当今的商业解决方案相比,加固型硅 MEMS OCXO 的 Endura Epoch Platform™ 在可靠性、SWaP、温度频率稳定性、温度变化、振动和保持时间方面提供了无与伦比的性能。这显着地将系统性能的标准提高到了今天无法达到的水平。

准备好改变您的设计了吗?让我们开始吧!